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W4型全譜直讀光譜儀擁有多項(xiàng)技術(shù)，可快速的對金屬材料樣品進(jìn)行元素測定。光學(xué)系統(tǒng)采用CMOS檢測器，光譜范圍覆蓋全部典型材料。無論從低含量元素還是到高含量的元素，它都能準(zhǔn)確、可靠的分析。針對不同材料、不同要求，具有性價比高的全譜直讀光譜儀，可滿足金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉用于質(zhì)量監(jiān)控、材料牌號識別、材料研究和開發(fā)的應(yīng)用。

1、性能優(yōu)越的光學(xué)系統(tǒng)

帕邢-龍格結(jié)構(gòu)凹面光柵，全譜覆蓋，滿足客戶對全元素檢測的需求。

直射式光學(xué)技術(shù)及采用MgF材料制作的光學(xué)器件，保證紫外區(qū)域的較佳性能。

高分辯率多CMOS讀出系統(tǒng)，更低的暗電流，更好的檢出限，更高的穩(wěn)定性，更強(qiáng)的靈敏度，滿足N的分析要求。

 2、大能量的數(shù)字激發(fā)光源

全數(shù)字化智能復(fù)合光源DDD技術(shù)，帶來優(yōu)越分析性能。

緊湊的設(shè)計及半導(dǎo)體控制技術(shù)，使得光源具有更好的穩(wěn)定性、更強(qiáng)的可靠性。

高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS),激發(fā)參數(shù)調(diào)整，充分滿足不同基體、不同樣品以及不同分析元素的激發(fā)要求。

 3、人性化的樣品激發(fā)臺設(shè)計

激發(fā)臺直接將激發(fā)光導(dǎo)入光學(xué)系統(tǒng)

開放式樣品臺，滿足大樣品測試要求。

變換電極可對小樣品及復(fù)雜幾何形狀樣品分析有更好的性能

 4、簡潔的氬氣流設(shè)計

智能氬氣流設(shè)計及粉塵收集清理裝置

獨(dú)特的氬氣噴射技術(shù)，有效消除激發(fā)過程中等離子體的飄移，確保CCD檢測器能夠觀測高溫區(qū)域光信號，提高精度和穩(wěn)定性。

激發(fā)后，脈沖式氬氣吹掃，提高粉塵去除效果，提升儀器的短期和長期穩(wěn)定性。

 5、全智能的真空測量和控制

真空系統(tǒng)完全程控，在保證真空度的同時減少真空泵的運(yùn)行時間，

雙級設(shè)置，在儀器不運(yùn)行的情況下，開啟待機(jī)真空運(yùn)行狀態(tài)。

多級真空隔離措施及增加濾油裝置，保障光學(xué)元器件在可靠的環(huán)境中工作。

 6、方便快捷的透鏡清理裝置

單板式透鏡設(shè)計，拆裝方便。

 7、云計算及讀出系統(tǒng)

計算機(jī)與手機(jī)（或PAD)可同步顯示，方便面板操作。

高分辯率多CMOS讀出系統(tǒng)及FPGA、DSP和ARM技術(shù)，進(jìn)行數(shù)據(jù)采集。

以太網(wǎng)和TCP/IP協(xié)議，數(shù)據(jù)傳輸高速、可靠。

數(shù)據(jù)可遠(yuǎn)程傳輸，全面實(shí)現(xiàn)網(wǎng)絡(luò)化。實(shí)時方便對儀器運(yùn)行狀態(tài)的監(jiān)測和控制。

數(shù)據(jù)可進(jìn)行云打印。

 8、專用的光譜分析軟件

國際光譜儀制作標(biāo)準(zhǔn)的專用光譜儀軟件，操作界面人性化，功能標(biāo)準(zhǔn)化。

儀器在軟件中配備多條工廠校正曲線及更多材質(zhì)分析方法和先進(jìn)的解決方案。

可根據(jù)用戶的材料要求，可現(xiàn)場延長標(biāo)準(zhǔn)曲線的測量上、下限。

9、儀器及軟件運(yùn)算功能強(qiáng)大

自動光路校準(zhǔn)

低氬氣消耗
通用可調(diào)樣品適配器

基體擴(kuò)展功能

標(biāo)準(zhǔn)化參數(shù)修改

控樣修正功能

更安全、更開放的便捷設(shè)計

結(jié)果實(shí)時顯示，可為用戶定制打印報告功能

軟件快速診斷
界面操作簡單    

可靠的工廠校準(zhǔn)功能